体加热
炉体、腔体、箱体及真空/气氛环境下的整体热处理与测试。
整体热场 / 炉体腔体 / 真空气氛 / 热处理系统
本页为体加热产品分页目录，第 1 / 6 页；原有产品保留，新增产品根据KUCH体加热技术与热工装备产品手册补充。
新概念箱式炉
箱式整体热场设备，适合材料制备与热处理。
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升降式正火炉
升降式炉体结构，用于正火及整体热处理。
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高温箱式炉
高温箱式整体热场，适用于材料加热和烧结。
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RTP快速退火炉
快速热处理退火炉，具备快速升温能力。
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温度梯度加热箱
可形成温度梯度的整体热场装备。
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工业型钼带真空炉
大型卧式工业真空炉，用于真空热处理和钎焊。
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小型卡罐火焰冲击试验台
模拟火焰冲击与高温环境的热工试验装备。
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mini管式炉1200°C（立式）
立式 mini 管式炉，适合小型样品整体热处理。
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开启式管式炉1200℃
开启式管式炉，便于试样放置和工艺观察。
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旋转管式炉1200℃
旋转管式炉，适合粉体和管式气氛处理。
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大口径真空管式炉
大口径真空管式热处理设备。
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PECVD系统
PECVD 工艺系统，适合薄膜沉积和高温工艺。
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