快速热处理退火炉简称 RTP（Rapid Thermal Processing Furnace），是我公司在原有生产制造工艺的基础上不断改进，自主研发而成。它不但拥有非常快的升温速率100℃/S，而且可在烧结工艺运行完结后直接将试样在高温区取出。退火炉可实现物理状态下的快速降温。我们的工程师巧妙地利用了冷壁工艺，退火炉在绿色节能环保的基础上实现了试样的快速升降温。
设备采用了内管进气、外管出气的气路结构，使得反应气氛与加工样品充分而均匀地接触。退火炉是CVD法生长大尺寸二维石墨烯的常用设备。测温元件直接和试样接触，保证试样温度的准确性。
快速热处理退火炉（RTP）主要用于半导体工业和新型材料工艺领域，包括晶圆热处理、掺杂激活、缺陷修复、金属氧化物半导体场效应晶体管（MOSFET）和太阳能电池的后工艺处理，以及CMOS器件后端制程。RTP在材料性能研究、半导体材料制备、纳米材料合成与研究中也发挥重要作用。此外，RTP广泛应用于IC晶圆、LED晶圆、MEMS等芯片产品的生产，以及液晶显示器（LCD）、有机发光二极管（OLED）等显示器件的制造。在金属材料加工、电子器件封装与组装、太阳能电池制造等领域，RTP也提供了关键的热处理支持。
1、极速升温 100℃/S，极速降温 100℃/S；
2、智能控制系统，大屏幕操作界面；
3、双层炉管结构，气氛与样品接触更均匀；
4、直接测量样品表面温度，测温更精准；
5、炉膛根据设置可自动左右移动，可以满足更多的实验应用；
6、淬火后冷却气体直吹样品表面，智能控制系统可以保证腔内压力自动平衡；
