高真空镀膜设备有外形美观、结构紧凑、性能多样、操作简单可靠、耗电量低的特点。可实现蒸发镀膜、磁控溅射镀膜、电弧镀膜、CVD、PECVD等工艺。可进行手动、半自动、全自动控制。有多种尺寸型号可供选择。
适用加工材料：ABS、PS、PP、PC、PVC、TPU、尼龙、玻璃、陶瓷、金属等;
镀基材料表面状态：电镀亮面、哑光面(半哑光、全哑光)、工艺电镀皱纹、拉丝、雨滴等;
镀制颜色：半透明膜、金、银、红、蓝、绿、紫、七彩等多种颜色;
高真空镀膜设备是一种用于在超高真空环境下进行薄膜沉积的精密设备，广泛应用于光学、电子、半导体、装饰、工具涂层等领域。
1、超高真空环境：工作压力通常在10^-5 Pa至10^-7 Pa范围内，确保薄膜纯净无污染。
2、多种镀膜技术：支持物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)、磁控溅射、离子镀、电子束蒸发等多种镀膜工艺。
3、高精度控制：配备先进的真空系统、温控系统和膜厚监控系统，确保薄膜均匀性和一致性。
4、多功能性：可镀制金属膜、介质膜、复合膜等多种功能薄膜。
5、自动化操作：采用PLC或计算机控制系统，实现自动化操作和工艺参数精确调节。
1、光学领域：镀制增透膜、反射膜、滤光片等，用于镜头、激光器、显示器等光学元件。
2、电子与半导体：用于集成电路、太阳能电池、LED等器件的金属化和钝化层沉积。
3、装饰行业：在手表、首饰、手机外壳等表面镀制耐磨、美观的装饰膜。
4、工具涂层：在刀具、模具表面镀制硬质薄膜(如TiN、CrN)，提高耐磨性和使用寿命。
5、科研领域：用于新材料、新工艺的研究和开发。
