该型号PECVD为我公司的最新款，它凝聚了众多先进技术与创新设计，综合了国内大多数厂家的管式PECVD系统的优点。
这款PECVD的一大亮点在于其独特的结构设计。在PECVD前端特意加入了气体预热区，经过大量实验验证，这一设计带来了极为显著的优势。沉积速度大幅提升，能够在更短的时间内完成任务，有效提高生产效率;成膜质量更是出类拔萃，所形成的薄膜均匀、稳定，能满足各种高精度的应用需求;而且针孔较少，不易出现龟裂现象，极大地保障了产品的稳定性和可靠性，为后续的加工处理等环节奠定了坚实基础。
不仅如此，在控制部分我们更是采用了公司自主研发的实验电炉全自动智能控制系统。这一系统的应用使得整个操作过程变得无比简便，无需专业人员耗费大量时间去调试和监控，即使是普通操作人员也能轻松上手。同时，其功能也更加强大，能够精准地控制各项参数，根据不同的实验或生产需求灵活调整，实现了智能化、自动化的高效运作模式。
选择我们公司的这款最新款PECVD，就是选择高效、稳定、智能的先进设备，助力您在相关领域取得更加卓越的成果!
PECVD 系统是为了使传统的化学气象沉积(CVD)反应温度降低，在普通 CVD 装置的前端加入 RF 射频感应装置将反应气体电离，形成等离子体，进而利用等离子体的活性来促进反应。
1、气体预热 —— 增加前端气体预热区，沉积速度更快，成膜效果更好；
2、智能 控制系统 —— 加热控制、等离子射频控制、气体流量控制、真空系统控制统一集中调节和操控，协调控制；
3、管内压力自动平衡 —— 管内压力实时监测，自动平衡管内压力。
4、智能气路通断 —— 每路气体均可定时通断，省时省力；
5、射频功率和开关定时控制 —— 预先设定好功率的大小和打开与关闭的时间，系统自动运行；
6、炉膛移动速度可调 —— 根据实验要求，用户可设定炉膛左右移动的速度可距离；
7、整机结构融为一体 —— 移动方便，避免分散组装的困扰。
1、光伏领域PECVD：系统用于制备硅基太阳能电池的减反射膜和钝化膜。减反射膜通过控制折射率和厚度减少光反射，提高光电转换效率。钝化膜降低表面复合速率，提升电池性能。
2、半导体制造领域：PECVD系统在介质层沉积和表面钝化层制备中发挥关键作用。介质层沉积用于隔离导电层和保护有源区，而表面钝化层减少载流子复合，提高器件稳定性。
3、平板显示器制造领域：PECVD系统用于LCD的透明导电薄膜沉积和OLED的缓冲层、封装层制备。透明导电薄膜对LCD电极性能至关重要，而OLED的缓冲层和封装层则提升发光效率和器件寿命。
4、其他领域：PECVD系统在MEMS制造中沉积绝缘和保护薄膜，以及在光学器件制造中沉积光学薄膜，如增透膜和高反膜，改善光学性能。
